SK하이닉스㈜

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에스케이하이닉스㈜
SK Hynix㈜

에스케이하이닉스㈜ 또는 SK Hynix㈜는 1983년 현대전자로 설립됐고, 2001년 하이닉스반도체를 거쳐 2012년 최대주주가 SK텔레콤으로 바뀌면서 SK하이닉스로 상호를 변경한 SK의 반도체 회사이다.

개요

이천, 청주의 국내 사업장을 포함하여 중국 우시, 충칭 4곳에 생산기지와 전세계 4개의 연구개발법인, 10개의 판매법인을 운영하는 글로벌 기업이다. 모바일과 컴퓨팅 등 각종 IT 기기에 필수적으로 들어가는 D램과 낸드플래시 등 메모리반도체를 중심으로 저소비전력형의 촬상소자(CIS, CMOS Image Sensor)와 같은 시스템반도체 등을 생산하는 기업이다.. 1984년 국내 최초로 16킬로바이트(Kb) 에스(S)램을 시험 생산한 이래, 세계 최초-최소-최고속-최저전압의 혁신적인 반도체 제품을 시장에 선보이며 30여 년간의 축적된 반도체 생산운영 노하우를 바탕으로 지속적인 연구개발 및 투자를 통해 기술 및 원가 경쟁력을 확보하고, 세계 반도체 시장을 선도하기 위해 노력하고 있다. 주요 제품 및 서비스는 메모리 반도체(DRAM, NAND Flash, MCP) 및 시스템 반도체(CIS) 반도체이다. 사업개시일은 1983년 2월이며, 본사는 경기도 이천시 부발읍 경충대로 2091에 위치해 있다. 현재 대표이사는 이석희이다.[1]

연혁

  • 1983년 02월 : 현대전자산업주식회사 창립
  • 1984년 04월 : 통신기기공장, 정보기기공장 준공
  • 1985년 05월 : 일반 전화기 국내시판 개시, 16킬로바이트(Kb) 에스(S)램/64킬로바이트(Kb) 디(D)램 양산 개시
  • 1986년 04월 : 반도체영업본부 발족, 반도체연구소 설립
  • 1987년 10월 : 카폰 수출 10만대 돌파, 256킬로바이트(Kb) 디(D)램 수출 개시
  • 1988년 12월 : 자동응답전화기 개발
  • 1989년 01월 : 세계반도체시장 점유율 20위권 진입
  • 1991년 10월 : 국내 최소형, 최경량 휴대용 전화기 시판
  • 1993년 02월 : 자동차용 위성위치확인시스템(GPS, Global positioning system) 자동항법장치 세계 3번째로 개발
  • 1995년 10월 : 세계최초 256메가바이트(Mb) 에스(S)램 개발
  • 1996년 02월 : 미국 오레건주 반도체공장 (HSA)착공
  • 1997년 11월 : 세계최초 싱크링크 디(D)램 시제품 개발
  • 1998년 11월 : 세계 최고속 128메가바이트(Mb) 에스(S)램 양산
  • 1999년 10월 : ㈜현대반도체 흡수합병
  • 2000년 05월 : 전 사업장 환경경영 인증획득, 국내최초로 ADSL시스템 수출
  • 2001년 01월 : 안전ㆍ보건 분야 국제인증규격 획득, 초고속 512메가바이트(Mb) DDR SD램(Double Data Rate) 개발
  • 2001년 12월 : 세계 최고속 그래픽용 128메가바이트(Mb) DDR SD램(Double Data Rate) 출시
  • 2002년 06월 : 고성능 정보가전용 256메가바이트(Mb) 에스디(SD)램 최초 출시
  • 2004년 08월 : 중국 장쑤성 우시시와 중국 현지공장설립 본계약 체결
  • 2005년 12월 : 세계 최고속, 최대용량 그래픽 메모리 512메가바이트(Mb) GDDR4 디(D)램 개발
  • 2006년 10월 : 중국 합작공장 Hynix-ST 준공으로 글로벌 300mm 생산체제 구축
  • 2007년 04월 : 업계 최고 수준의 이익률 기록, 청주 300mm 공장 (M11) 착공 , 퓨전메모리 DOC H3 본격양산
  • 2008년 08월 : 청주 300mm 전용 청주 제3공장 준공, 미국 상계관세 철폐, 세계 최초 16기가바이트(GB) 서버용 모듈 개발
  • 2009년 12월 : 세계 최초 40나노급 2기가비트 그래픽 DDR5 개발
  • 2010년 11월 : 반도체 업계 최초 탄소경영보고서 발간, 국내 기업 ‘기업지배구조’ 1위 선정
  • 2011년 04월 : 30나노급 2기가바이트(GB) 차세대 DDR4 디(D)램 개발
  • 2012년 09월 : 20나노급 4기가바이트(GB) 그래픽 DDR3 개발, ‘플래시 디자인 솔루션 센터’ 설립
  • 2013년 11월 : 16나노 낸드플래시 양산 체제 구축
  • 2014년 06월 : 업계 최초 '임금공유제' 도입
  • 2018년 11월 : 2세대 10나노급(1Y) 16기가바이트(GB) DDR5 개발, 2세대 10나노급(1Y) DDR4 디(D)램 개발, 세계 최초 CTF 기반 96단 4D 낸드 개발
  • 2019년 10월 : ‘글로벌 뉴스룸’ 오픈, 3세대 10나노급(1z) DDR4 D램 개발
  • 2020년 10월 : 세계 최초 DDR5 디(D)램 출시, 인텔 낸드 메모리 사업 인수 발표

주요 제품

디램

디램(DRAM,Dynamic random access memory)은 램의 한 종류로 저장된 정보가 시간에 따라 소멸되기 때문에 주기적으로 재생시켜야 하는 특징을 가지고 있다. 구조가 간단해 집적이 용이하므로 대용량 임시기억장치로 사용되는 임의접근기억장치(Random Access Memory)의 한 종류이다.[2]
  • 모듈(MODULE) : 총 4가지의 제품으로 구성되어 있다. 첫 번째 제품은 (RDIMM, Registered Dual In-line Memory Module)로 디(D)램과 시스템 메모리 컨트롤러 사이에 주소와 명령 신호를 위한 레지스터(RCD, Registration Clock Driver)가 추가된 듀얼 인라인 메모리 모듈(DIMM, Dual in-line memory module)이다. x4, x8 디(D)램, x4 3DS 스택을 지원하며 서버(Server)와 네트워킹(Networking)에 응용된다. 두 번째는 LRDIMM(Load Reduced DIMM) 세 번째는 UDIMM(Unregistered DIMM) 네 번째는 SODIMM(Small Outline DIMM)
  • 디디알(Double Data Rate) :


참고자료



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  1. SK하이닉스㈜ 공식홈페이지 - https://www.skhynix.com/kor/index.jsp
  2. ,〈DRAM〉, 《네이버 지식백과》