ALD(원자층증착, Atomic Layer Deposition)는 반도체·디스플레이의 핵심 기술이다. 최근에는 배터리 공정에 많이 접목되고 있다. ALD는 단일 원자만큼의 두께를 가진 얇은 박막을 쌓는 기술로 기판 모양과 크기에 상관없이 균일한 박막 형성이 가능하다. 독일 응용기술 연구기관 프라운호퍼(Fraunhofer)는 네덜란드 응용과학 연구소(TNO)는 ALD를 배터리 공정에 응용했다. 전극 물질의 표면을 균일하게 코팅해 화학 반응을 통한 전기 생산의 효율성을 높였다. SALD 공정을 활용하면 에너지 밀도를 높여 1회 충전 시 1000㎞ 이상 주행이 가능한 배터리를 개발할 수 있다는 게 연구진의 설명이다. 주행 거리는 3배 늘어나고 충전 시간은 5배 빨라진다. 니켈과 망간, 코발트 등 소재의 사용량도 줄어 제조 비용을 감축하는 장점도 있다.[1]
참고자료
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